Cu V2O3(0001)薄膜上的生长模式及相互作用

Cu deposited on V2O3(0001) surface: growth and interaction

项目批准号:10074079

中国科学院物理研究所 肖文德 谢侃 郭沁林

  金属与金属氧化物的相互作用、价带结构的研究对多相催化、气敏传感器和微电子器件方面的应用是十分重要的。Cu V2O3 都是化学工业中用途广泛的催化剂。研究Cu V2O3 的电子结构与相互作用对于了解催化和化还原反应的机理,设计开发更为高效实用的工业催化剂有非常重要的意义。

  为此在超高真空中首先在Re(0001)表面上制备了有取向V2O3(0001)薄膜,然后室温下在V2O3(0001)薄膜上沉积不同厚度的Cu ,同时用XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)、UPS(ultraviolet photoelectron spectroscopy)和LEED(low-energy-electron diffraction)Cu V2O3(0001)薄膜上的生长模式、Cu V2O3(0001)表面相互作用进行了研究。结果发现Cu V2O3(0001)表面上的生长遵循Volmer-Weber 模式;在低沉积量时(小于0.4 单层量)Cu V2O3(0001)表面发生了电荷转移,Cu 的化学状态呈一价;随着Cu 的沉积量的增加逐渐变成金属态;在16 单层量时,可以观察到清晰的Cu(111)R30°/V2O3(0001)超结构LEED。

 

工程与材料科学部、国际合作局 主办
数理科学部、化学科学部 协办